Lampe sècheur de wafer DNS (Screen)

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Sur le poste de lithographie, ce wafer de 300 mm sort tout juste du nettoyeur DNS et attend d’être soumis au traitement par photorésiste. La ligne de production ne peut tolérer aucune variation de température de ±0,5 °C ; de plus, la salle propre ne peut pas supporter l’ présence de particules supplémentaires. Si le profil thermique varie ne serait-ce qu’un peu, on perd le contrôle de la précision de fabrication – et donc on perd en rendement.

(Ecran) on Handcrafted Warm IR Heaters

Lampe sècheur de wafer DNS (Screen)