Trockner on Handcrafted Warm IR Heaters

Controller für digitale Infrarot Trockner

Sat, 25 Jul 2026 02:54:56 +0800

Verhinderung von Bränden in chemischen Reinigungssystemen
Seien wir ehrlich: Die Verwendung von Infrarotheizungen in der Nähe brennbarer Chemikalien ist äußerst riskant. Schon ein kleiner Funke oder eine winzige Riss in einem Quarztube kann zu einer Katastrophe führen.

Das Problem ist, dass herkömmliche Infrarotlampen nicht für solche Umgebungen geeignet sind. Deshalb bauen wir unsere Systeme mit einer speziellen „Panzerung“ aus, damit die elektrischen Komponenten vollständig von diesen brennbaren Dämpfen getrennt bleiben.

Wie wir das Problem lösen
Wir verwenden keine einfache Klebstoffbeschichtung – stattdessen nutzen wir einen mehrschichtigen Versiegelungsprozess, um Chemikalien davon abzuhalten, in die Elektronik einzudringen. Der Heizelement selbst befindet sich zwar in hochreinem Quarz – doch die eigentlichen Gefahrenquellen liegen meist an den Anschlussstellen und Leitungen. Dort können Dämpfe eindringen. Wir verschließen diese Stellen mit verstärkten Dichtungen sowie Harzen, die nicht mit Chemikalien reagieren. Dadurch wird verhindert, dass korrosive Dämpfe entlang der Leitungen bis ins Innere der Lampe gelangen.

Lampe zum Trocknen von Dünnschicht Solarmodulen

Sun, 28 Jun 2026 02:12:16 +0800

Bei dünnfilmbasierten Solarmodulen gibt es keinen Raum für Temperaturschwankungen. Eine Abweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses kann zu Stressänderungen führen, wodurch die Effizienz des Moduls beeinträchtigt wird. Es ist daher notwendig, einen Trockenofen zu verwenden, der die Temperatur als kontrollierte Größe behandelt – und nicht als Zufallsvariable.

Was technisch wichtig ist:
Wir haben den Trockenofen so konstruiert, dass er kurzwellige Infrarotstrahlen verwendet, die darauf abgestimmt sind, wie organische Substanzen sowie dünnfilmbasierte Strukturen Licht absorbieren. Dadurch wird eine schnelle, gleichmäßige Erwärmung erreicht – ohne dass die Substanzen verbrennen. Auf der gesamten Fläche des Chips bleibt die Temperatur innerhalb von ±0,1 °C konstant, sodass die kritischen Abmessungen auch nach der Lithografie weiterhin im gewünschten Bereich liegen.

DNS (Screen) Wafer Trocknungsleuchte

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Auf der Lithografiestraße kommt das 300-mm-Wafer gerade aus dem DNS-Reiniger und wartet darauf, im Fotorezeptor gebrannt zu werden. Die Anlage verträgt keine Abweichungen von ±0,5 °C – außerdem darf es in dem Reinraum keine zusätzlichen Partikel geben. Wenn das thermische Profil auch nur leicht abweicht, geht die Kontrolle über die Temperatur verloren – und damit auch die Produktivität.

Genauigkeit der Infrarotheizung: Sub-millimetergenaue Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit
Die Lampe zum Trocknen der Wafer wird mit Kurzwellen-Infrarotstrahlern ausgestattet, die auf die Absorptionseigenschaften der üblichen Fotorezeptorschichten abgestimmt sind. Dadurch wird eine sub-millimetergenaue Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche des Wafers erreicht. Zudem sorgt die wiederholbare Steuerung dafür, dass die Temperatur stets innerhalb enger Toleranzen bleibt – sowohl während des sanften als auch des intensiven Brennvorgangs. Die geschlossene Regelung hält die Temperatur genau dort, wo sie benötigt wird – somit erhält jede Charge das gleiche Temperaturprofil, Schicht für Schicht.

Quarzheizer für Wafer Reinigungs und Trocknungsanlage

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

In der Fertigungsstätte befindet sich der Spüldroger direkt zwischen den Schritten der Reinigung und der Lithografie. Selbst eine Temperaturabweichung von nur 0,5°C kann dazu führen, dass auf dem Wafer Spuren zurückbleiben – oder schlimmer noch: Es kann zu einer Verformung des Photorezysts nach der Hartbrennprozedur kommen. Wir haben unseren Quarzheizer speziell für diese Zone entwickelt – dort sind eine schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen, Sauberkeit sowie Reproduzierbarkeit entscheidend für die Qualität der Produkte.

Was technisch wichtig ist:
Der Kern des Heizers besteht aus einem Kurzwellen-Quarzinfrarotstrahler, der eine schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen ermöglicht. Unsere Zielvorgabe ist eine thermische Gleichmäßigkeit auf dem Wafer von ±0,1°C über die gesamte Fläche hinweg. Die Temperatur kann dabei zwischen 50°C und 250°C eingestellt werden, wobei die Reaktionszeit unter 2 Sekunden liegt. Durch die geschlossene Regelung bleibt das Temperaturprofil konstant – dadurch werden empfindliche Strukturen nach dem Ätzen und CMP nicht beschädigt. Der Heizer besteht aus Ultrahochreinem Quarz, der mit Reinraumklassen 1–100 kompatibel ist. Die Oberfläche ist so konzipiert, dass nur minimale Partikel entstehen – außerdem funktioniert der Heizer 24/7 ohne Abweichungen, die eine Neukalibrierung notwendig machen würden.

FOUP (Front Opening Unified Pod) Trockner

Thu, 04 Jun 2026 01:24:39 +0800

Role

Sie öffnen auf der Lithografie-Ebene einen FOUP, und das Risiko trifft Sie, bevor Sie es sehen können. Restfeuchtigkeit. Photoresist, der nicht über das gesamte Lot die gleiche Temperatur hat. Ein Softbake, das nur um 2°C abweicht, und plötzlich verfolgen Sie stundenlang eine Linienbreitenabweichung. In Hochvolumen-Fabs zeigt sich solche thermische Variabilität nicht nur auf der Linie – sie führt zu Ausschuss und ungeplanten Stillständen.

Was unter der Haube zählt
Wir haben den FOUP-Trockner um kurzwellige Infrarot-Emitter entwickelt, die auf die Wärmeaufnahme von Silizium und Photoresist abgestimmt sind. Das ermöglicht Direktübertragungswärme mit einer Wafer-gleichmäßigkeit von ±0,1°C. Das thermische Profil bleibt Lot für Lot reproduzierbar, da wir die Emitterleistung in einem geschlossenen Regelkreis steuern – ohne Schätzung anhand der Kammerluft. Das System leitet die Abluft cleanroom-gerecht ab und verwendet Materialien, die Class 1–100-konform sind, sodass keine Partikel entstehen. Es läuft rund um die Uhr mit planmäßiger vorausschauender Wartung, nicht mit unerwarteten Ausfällen.