Quarzheizer für Wafer Reinigungs und Trocknungsanlage

Sat, 20 Jun 2026 02:45:02 +0800

In der Fertigungsstätte befindet sich der Spüldroger direkt zwischen den Schritten der Reinigung und der Lithografie. Selbst eine Temperaturabweichung von nur 0,5°C kann dazu führen, dass auf dem Wafer Spuren zurückbleiben – oder schlimmer noch: Es kann zu einer Verformung des Photorezysts nach der Hartbrennprozedur kommen. Wir haben unseren Quarzheizer speziell für diese Zone entwickelt – dort sind eine schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen, Sauberkeit sowie Reproduzierbarkeit entscheidend für die Qualität der Produkte.

Was technisch wichtig ist:
Der Kern des Heizers besteht aus einem Kurzwellen-Quarzinfrarotstrahler, der eine schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen ermöglicht. Unsere Zielvorgabe ist eine thermische Gleichmäßigkeit auf dem Wafer von ±0,1°C über die gesamte Fläche hinweg. Die Temperatur kann dabei zwischen 50°C und 250°C eingestellt werden, wobei die Reaktionszeit unter 2 Sekunden liegt. Durch die geschlossene Regelung bleibt das Temperaturprofil konstant – dadurch werden empfindliche Strukturen nach dem Ätzen und CMP nicht beschädigt. Der Heizer besteht aus Ultrahochreinem Quarz, der mit Reinraumklassen 1–100 kompatibel ist. Die Oberfläche ist so konzipiert, dass nur minimale Partikel entstehen – außerdem funktioniert der Heizer 24/7 ohne Abweichungen, die eine Neukalibrierung notwendig machen würden.

Spülen on Handcrafted Warm IR Heaters

Quarzheizer für Wafer Reinigungs und Trocknungsanlage