Heizelemente für Extreme UV (EUV) Resistenzen

Wed, 01 Jul 2026 07:57:07 +0800

In der Lithografieabteilung verzeiht das EUV-Resist-Verarbeitungsverfahren keine thermischen Abweichungen. Ist die Temperatur beim Weichen des Resists um einen Grad zu hoch? Oder führt die hohe Temperatur dazu, dass es zu Abweichungen auf der Waferoberfläche kommt? Dann geht die Produktivität verloren – und zwar schrittweise, und zwar von Schicht zu Schicht. Die Heizelemente unter dem Resist müssen eine konstante Temperatur liefern, unabhängig von den verschiedenen Schichten sowie Chargen – ohne dass Partikel entstehen oder Stillstände auftreten.

Extrem on Handcrafted Warm IR Heaters

Heizelemente für Extreme UV (EUV) Resistenzen