DNS (Screen) Wafer Trocknungsleuchte

Wed, 24 Jun 2026 01:35:47 +0800

Auf der Lithografiestraße kommt das 300-mm-Wafer gerade aus dem DNS-Reiniger und wartet darauf, im Fotorezeptor gebrannt zu werden. Die Anlage verträgt keine Abweichungen von ±0,5 °C – außerdem darf es in dem Reinraum keine zusätzlichen Partikel geben. Wenn das thermische Profil auch nur leicht abweicht, geht die Kontrolle über die Temperatur verloren – und damit auch die Produktivität.

Genauigkeit der Infrarotheizung: Sub-millimetergenaue Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit
Die Lampe zum Trocknen der Wafer wird mit Kurzwellen-Infrarotstrahlern ausgestattet, die auf die Absorptionseigenschaften der üblichen Fotorezeptorschichten abgestimmt sind. Dadurch wird eine sub-millimetergenaue Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche des Wafers erreicht. Zudem sorgt die wiederholbare Steuerung dafür, dass die Temperatur stets innerhalb enger Toleranzen bleibt – sowohl während des sanften als auch des intensiven Brennvorgangs. Die geschlossene Regelung hält die Temperatur genau dort, wo sie benötigt wird – somit erhält jede Charge das gleiche Temperaturprofil, Schicht für Schicht.

DNS on Handcrafted Warm IR Heaters

DNS (Screen) Wafer Trocknungsleuchte