Chauffage à quartz pour sécheur de rinçage de wafers
Sur le plan de production, le dispositif de rinçage et de séchage est situé juste entre les étapes de nettoyage et d’impression photolithographique....
Sécheur FOUP (Pod Unifié à Ouverture Frontale)
Sur le plancher de lithographie, vous ouvrez un FOUP et le risque se manifeste avant même que vous puissiez le voir. Humidité résiduelle. Photoresist...